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產(chǎn)品展示/ Product display

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白炭黑濕法改性高剪切分散機(jī)

白炭黑濕法改性高剪切分散機(jī)功率4KW,轉(zhuǎn)速0-18000rpm,線速度0-44m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為0-300升/小時(shí)(水),重量50KG,尺寸(長(zhǎng)寬高450X350X750)mm,使用雙機(jī)械密封,可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn),并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn),是實(shí)驗(yàn)和中試生產(chǎn)的理想選擇。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-12
  • 訪  問  量:2445
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詳細(xì)介紹

一、產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞:白炭黑濕法改性高剪切分散機(jī),二氧化硅濕法改性研磨機(jī),管線式在線研磨分散機(jī)

二、改性白炭黑的意義

白炭黑具有特殊的表面結(jié)構(gòu)(帶有表面羥基和吸附水)、特殊的顆粒形態(tài)(粒子小、比表面積大等)和*的物理化學(xué)性能。但由于其內(nèi)部的聚硅氧和外表面存在的活性硅醇基及其吸附水,使其呈親水性,在有機(jī)相中難以濕潤(rùn)和分散,而且,由于其表面存在羥基,表面能較大,聚集體總傾向于凝聚,因而產(chǎn)品的應(yīng)用性能受到影響。為此,需要對(duì)白炭黑進(jìn)行表面改性,以改善其應(yīng)用效果,提高產(chǎn)品的附加值,拓展產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)域。

三、改性白炭黑的方法

白炭黑表面改性有無機(jī)物改性和有機(jī)物改性兩種。

有機(jī)物改性是白炭黑表面改性的主要方法,該改性方法的技術(shù)關(guān)鍵在于有機(jī)基團(tuán)取代白炭黑的表面羥基,這一步稱為有機(jī)硅烷化。有機(jī)物改性常用的方法分為干法和濕法兩種

1.干法

目前發(fā)達(dá)國(guó)家的氣相白炭黑的表面改性工藝均采用干法。采用干燥的白炭黑與改性劑(有機(jī)物)蒸汽在固體反應(yīng)器或流化床反應(yīng)器中高溫條件下接觸反應(yīng)。

2.濕法

主要有兩種

①將干燥的白炭黑與改性劑及一種有機(jī)溶劑(苯、甲苯等)組成的溶液一起加熱煮沸,回流反應(yīng),然后分離、干燥。該法的主要特點(diǎn)是工藝簡(jiǎn)單,產(chǎn)品質(zhì)量容易控制,改性劑消耗量小。缺點(diǎn)是其產(chǎn)品后處理過程復(fù)雜,且造成有機(jī)溶劑污染,較難實(shí)現(xiàn)規(guī)?;I(yè)生產(chǎn)。

②將干燥的白炭黑或洗滌后的沉淀白炭黑濾餅配制成水溶液料漿,可加入改性劑進(jìn)行有機(jī)硅烷化反應(yīng);或者將改性劑直接加入到合成沉淀白炭黑的原料中,合成反應(yīng)的同時(shí)進(jìn)行改性反應(yīng);還可以再合成沉淀反應(yīng)完成后的懸濁液中加入改性劑。該法的主要特點(diǎn)是工藝簡(jiǎn)單,輔助設(shè)備少,可以對(duì)沉淀白炭黑尤其是沉淀白炭黑的半成品進(jìn)行改性,有利于降低產(chǎn)品成本。

四、濕法改性白炭黑的設(shè)備

對(duì)于沉淀白炭黑的改性,國(guó)內(nèi)大多是采用濕法改性。由于國(guó)內(nèi)沉淀白炭黑的生產(chǎn)現(xiàn)狀,生產(chǎn)出來的沉淀白炭黑顆粒粒徑相對(duì)而言還比較大,要想充分改性,就必須將沉淀白炭黑的顆粒進(jìn)行細(xì)化。對(duì)于沉淀白炭黑的濕法改性而言,太倉(cāng)希德研發(fā)的研磨分散機(jī),很好的適應(yīng)于沉淀白炭黑的濕法改性。SID研磨分散機(jī)不僅可以將改性劑充分的分散到白炭黑水溶液料漿中,同時(shí)又可以將白炭黑顆粒充分細(xì)化,從而實(shí)現(xiàn)白炭黑的改性。

XM2000系列研分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。初級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

XM2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

1、線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。

2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

4、高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

XMD2000白炭黑濕法改性高剪切分散機(jī)
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

1、采用XMD2000/4研磨分散機(jī),進(jìn)行研磨細(xì)化。

2、7L罐體(罐體大小后期可選擇)及循環(huán)系統(tǒng),易于批次物料處理。

3、攪拌機(jī)進(jìn)行攪拌預(yù)混,提高產(chǎn)品的均勻性。

4、我司研磨分散機(jī)為超高速設(shè)備(轉(zhuǎn)速18000rpm),需要配冷水機(jī)對(duì)機(jī)械密封進(jìn)行降溫。

5、同時(shí)需要配置一臺(tái)變頻器,進(jìn)行轉(zhuǎn)速調(diào)試,設(shè)備開關(guān),有利于保護(hù)設(shè)備。

功率4KW,轉(zhuǎn)速0-18000rpm,線速度0-44m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為0-300升/小時(shí)(水),重量50KG,尺寸(長(zhǎng)寬高450X350X750)mm,使用雙機(jī)械密封,可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn),并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn),是實(shí)驗(yàn)和中試生產(chǎn)的理想選擇。

 

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