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二氧化鈦超高速研磨分散機(jī)

二氧化鈦超高速研磨分散機(jī)定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-12
  • 訪  問(wèn)  量:2151
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詳細(xì)介紹

二氧化鈦超高速研磨分散機(jī)

二氧化鈦研磨分散機(jī),NRT606二氧化鈦研磨分散機(jī),龍蟒研磨分散機(jī)是是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
二氧化鈦
在一般情況下與大部分物質(zhì)不發(fā)生反應(yīng)。在自然界中二氧化鈦有三種結(jié)晶:板鈦型、銳鈦和金紅石型。板鈦型是不穩(wěn)定的晶型,無(wú)工業(yè)利用價(jià)值,銳鈦型(Anatase)簡(jiǎn)稱(chēng)A型,和金紅石型(Rutile)簡(jiǎn)稱(chēng)R型,都具有穩(wěn)定的晶格,是重要的白色顏料和瓷器釉料,與其他白色顏料比較有*的白度、著色力、遮蓋力、耐候性、耐熱性、和化學(xué)穩(wěn)定性,特別是沒(méi)有毒性。

二氧化鈦是目前工業(yè)領(lǐng)域中*好的白色顏料,被廣泛應(yīng)用于涂

料、塑料、橡膠、紙張、陶瓷、化妝品與紡織工業(yè)。其中金紅石型鈦

白較銳鈦型鈦白具有更高的耐候性,但金紅石型鈦白表面仍然存

在光活性缺陷,為了提高鈦白的成品質(zhì)量,必須進(jìn)行表面包膜處

理,包膜前要求TiO2顆粒具有良好的分散性,所以必須進(jìn)行打漿

分散,提高其分散性。打漿分散工序作為表面處理的前序工作,它

的地位是***關(guān)重要的,如何使打漿料漿具備更好的分散性和穩(wěn)定

性對(duì)獲得符合要求的TiO2顆粒分散性具有重要意義。

二、打漿分散的目的

從煅燒崗位下來(lái)的二氧化鈦粉末,它的粒子狀態(tài)主要呈現(xiàn)四

種:原級(jí)粒子、聚集體、凝聚體和絮凝體,在后處理生產(chǎn)工藝中,分

散粗顆粒和包膜采用的都是濕法處理過(guò)程,在此過(guò)程中,二氧化鈦在

介質(zhì)中的分散很重要,分散不良會(huì)使細(xì)微顆粒凝聚成粗顆粒,并會(huì)

造成包膜時(shí)顆粒表面涂膜不均,甚***有些顆粒涂膜不到,達(dá)不到包

膜作用。打漿分散的主要目的就是為后續(xù)工作提供充分分散的二

氧化鈦穩(wěn)定分散體。

三、打漿分散的影響因素

打漿分散的影響因素主要有:表面電荷、分散介質(zhì)的表面張

力、PH值、漿料濃度、攪拌強(qiáng)度等。

二氧化鈦高速研磨分散機(jī)

細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

二氧化鈦超高速研磨分散機(jī)

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