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產(chǎn)品展示/ Product display

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導(dǎo)熱硅脂超高速膠體磨

導(dǎo)熱硅脂超高速膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-12
  • 訪  問(wèn)  量:1662
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詳細(xì)介紹

導(dǎo)熱硅脂超高速膠體磨

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導(dǎo)熱硅脂俗稱散熱膏,導(dǎo)熱硅脂以有機(jī)硅酮為主要原料,添加耐熱、導(dǎo)熱性能優(yōu)異的材料,制成的導(dǎo)熱型有機(jī)硅脂狀復(fù)合物,用于功率放大器、晶體管、電子管、CPU等電子原器件的導(dǎo)熱及散熱,從而保證電子儀器、儀表等的電氣性能的穩(wěn)定。導(dǎo)熱硅脂也叫散熱膏、導(dǎo)熱膏,是一種高導(dǎo)熱絕緣有機(jī)硅材料。產(chǎn)品同時(shí)具有低油離度(趨向于零),耐高低溫、耐水、臭氧、耐氣候老化等優(yōu)點(diǎn)。

導(dǎo)熱硅脂的制備:傳統(tǒng)方式使用硅烷偶聯(lián)劑處理陶瓷粉體,持續(xù)攪拌,溶解后,加入粉體,繼續(xù)攪拌;調(diào)整PH值在10左右,60度水浴,攪拌3小時(shí),超聲分散15分鐘。烘干后按比例加入填料和硅油,將混合物放入研磨機(jī)研磨數(shù)十遍,得到復(fù)合材料。這種制備方法耗時(shí)耗力,且非常麻煩;新的制備只需要交混合好的填料和硅油按一定比例導(dǎo)入膠體磨,研磨數(shù)分鐘即可,冷卻后即得復(fù)合材料,經(jīng)檢測(cè)顆粒細(xì)膩均勻,性能更好。

膠體磨XMD2000系列特別適合于膠體溶液,超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,XMD在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。XM2000整機(jī)采用*佳幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,*好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

SID膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較:
一、轉(zhuǎn)速和剪切速率:
SID膠體磨,可選擇機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)    
F=23/0.7X1000=32857 S-1  
F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      
國(guó)內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440 S-1
通過(guò)轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

二、膠體磨頭和間距:
SID膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,超高速模塊,XMD膠體模塊,XMD膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。
間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
國(guó)內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差

三、機(jī)械密封:
SID膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降****低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)
國(guó)內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀

四、清洗:
SID膠體磨,立式,皮帶驅(qū)動(dòng),易于維護(hù),可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱,防止損壞,符合流體流動(dòng)原理,具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無(wú)需拆卸,機(jī)器設(shè)計(jì)*,立式結(jié)構(gòu)符合流體原理,清洗更簡(jiǎn)便
國(guó)內(nèi)膠體磨,臥式或立式(馬達(dá)一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜,
通常情況,需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗
 
XM2000系列的特點(diǎn):
①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
齒列的深度:從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

高剪切膠體磨主要用途:
高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類產(chǎn)品的先進(jìn)水平。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

導(dǎo)熱硅脂超高速膠體磨

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