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產(chǎn)品展示/ Product display

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高分子發(fā)泡材料研磨分散機(jī)

高分子發(fā)泡材料研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-01-31
  • 訪  問  量:1677
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詳細(xì)介紹

高分子發(fā)泡材料研磨分散機(jī)

目前,高分子發(fā)泡材料廣泛應(yīng)用于隔熱、隔音、減震、制鞋等領(lǐng)域。目前常用的高分子材料發(fā)泡方式有物理發(fā)泡和化學(xué)發(fā)泡?;瘜W(xué)發(fā)泡法是指將化學(xué)發(fā)泡劑與高分子材料共混后,在一定溫度下,化學(xué)發(fā)泡劑受熱分解,產(chǎn)生氣體,膨脹,使高分子材料發(fā)泡,目前加熱方式主要還是電加熱方式,由于電加熱過程是通過熱傳導(dǎo)使高分子材料加熱,即首先通過電熱板將發(fā)泡模具加熱,發(fā)泡模具將熱量再傳遞給模腔內(nèi)的發(fā)泡材料,存在能耗高,加熱時(shí)間長,易出現(xiàn)局部加熱溫度過高而部分區(qū)域仍存在加熱死角等問題。

太倉希德的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將希德機(jī)械膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SID研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫妫貏e要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

高分子發(fā)泡材料研磨分散機(jī)

 
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