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產(chǎn)品展示/ Product display

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鼻噴劑懸浮液高剪切分散機

鼻噴劑懸浮液高剪切分散機主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

  • 產(chǎn)品型號:XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-06-04
  • 訪  問  量:355
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詳細介紹

鼻噴劑懸浮液高剪切分散機

配液分散機,鼻噴劑高速分散機,循環(huán)分散均質(zhì)機,當固體顆粒分散到一種液體中時,形成一種懸浮液。為了實現(xiàn)互不相溶相的分散,必須強力粉碎并混合其粒子。粉碎意味著必須克服表面張力的阻力來形成新表面。分散過程傳遞所需的能量,并保證兩相均質(zhì)混合復方混選型鼻噴劑

原輔料特性:原輔料藥粉密度低于水,在加料過程中,藥粉會漂浮在水面上,而且藥粉很容易粘壁和結(jié)塊,因此,配料罐的設(shè)計需要保證在加藥過程中藥粉不能粘壁,而且剪切和攪拌能將藥粉分散。


先向50L配罐中加入一定處方量的純化水,然后將可溶性的輔料依次加入到配料罐中均質(zhì)溶解,在均質(zhì)過程中開啟真空裝置,進行抽真空,保證藥液不會氣泡。然后將不溶性的原料藥加入到配料罐中,均質(zhì),使原料藥分散均勻。(或者:先向50L濃配罐中加入一定處方量的純化水,開啟攪拌和管線式均質(zhì)機,然后將不溶性輔料加入,并通過打循環(huán)分散均質(zhì),一邊加料一邊分散,使不溶性的藥粉在水中能均一的分散,保證藥液濃度的均一性。)


100L配罐中加入一定處方量的純化水,開啟攪拌和分散均質(zhì)機,加入輔料。攪拌、均質(zhì)完成后,通過真空吸料將50L配罐中的藥液轉(zhuǎn)入到100L配罐中,并用一定量的純化水沖洗50L罐后,將其轉(zhuǎn)入100L罐中。接著,將已配置好的防腐劑溶液緩慢加入稀配罐中,然后通過加入已配置好的鹽酸來調(diào)節(jié)藥液的PH值,并通過PH計來檢測,通過加入一定量的純化水來定容(定容前,通過真空吸料將管路中的物料吸入到100L罐中)。定容后的藥液經(jīng)過攪拌以及在線均質(zhì)后,使其藥液分散均一,在均質(zhì)和攪拌過程中需要開啟真空裝置,進行抽真空,保證藥液不會氣泡。直配液完成。
100L配液罐作為儲液罐,繼續(xù)攪拌。藥液部分放入移液罐(帶攪拌),用于灌裝,如此反復,直灌裝完成。

100L配液罐攪拌形式為推進式攪拌槳,攪拌偏心式安裝,罐底出口直徑為DN20。配置高剪切分散均質(zhì)機(或管路式分散均質(zhì)機),均質(zhì)機*高剪切速度不低于9000rpm,剪切速度變頻可調(diào),高剪切轉(zhuǎn)速范圍0~5000rpm。分散的顆粒粒徑范圍10nm~5000nm(0.01μm~5μm),分散*大處理量70L,*小處理量:10L(或更?。?/span>

50L配液罐攪拌形式為錨式攪拌槳,攪拌中心安裝,罐底出口直徑為DN20.。配置可拆裝式高剪切分散均質(zhì)機(或管路式分散均質(zhì)機),均質(zhì)機高剪切速度不低于9000rpm,剪切速度變頻可調(diào),高剪切轉(zhuǎn)速范圍0~5000rpm。分散的顆粒粒徑范圍10nm~5000nm(0.01μm~5μm),分散*大處理量35L,*小處理量:5L(或更?。?。
超高速分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過10000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。
影響分散乳化均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

超高速分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出XRS2000超高速剪切分散機。其剪切速率可以超過20000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

超高速分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時,納米級時,體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機的循環(huán)往復,*終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

鼻噴劑懸浮液高剪切分散機



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